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    三氧化鉬和鉬酸鈉對鎂合金微弧氧化膜的影響

    時間:2018-12-08 16:20:21 來源:青島久印微弧氧化技術有限公司 作者:久印微弧氧化 點擊:


    在硅酸鹽體系中分別添加三氧化鉬和鉬酸鈉,對AZ91D鎂合金進行微弧氧化處理,對比研究鉬質量濃度相同的三氧化鉬和鉬酸鈉對微弧氧化膜耐蝕性的影響.通過TT260涂層測厚儀、SEM和XRD分別檢測膜層厚度、表面形貌和物相組成.采用點滴和電化學實驗研究膜層的耐蝕性.結果表明:電解液中加入鉬質量濃度相同的MoO3和Na2MoO4后,膜層點滴耐蝕性均有所降低,但電化學耐蝕性均增加,且二者添加量均為最少時膜層耐蝕性最佳.相比MoO3,加入鉬質量濃度相同的Na2MoO4所得膜層耐蝕性更佳,在添加0.42g/L Na2MoO4時制得膜層其腐蝕電流密度比無添加劑時的低約7倍,比基體的低約1個數量級.故加入Na2MoO4的性價比更高.此外,這2種添加劑的加入,均可在AZ91D鎂合金表面制得淺棕色的膜層,起顯色作用的物質是MoO2.


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