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    ZL205A微弧氧化膜層耐蝕性能研究

    時間:2018-12-07 10:21:04 來源: 作者: 點擊:


    利用硅酸鹽復合電解液體系,在ZL205A上采用微弧氧化法制備膜層。所用的工藝參數為:恒流控制,電流密度3 A/dm^2,頻率500 Hz,終止電壓450 V。利用掃描電鏡對該膜層的形貌及結構進行分析;對膜層的化學成分進行分析;采用極化曲線評價膜層的耐蝕性。結果表明:所制備的微弧氧化膜層能提高ZL205A的耐蝕性。


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